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中国腐蚀与防护学报  2000, Vol. 20 Issue (1): 1-7     
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H2S水溶液中的腐蚀与缓蚀作用机理的研究1.酸性H2S溶液中碳钢的腐蚀行为及硫化物膜的生长
杨怀玉;陈家坚;曹楚南
中科院金属所金属腐蚀与防护国家重点实验室
Study on Corrosion and Inhibition Mechanism in H2S Aqueous Solutions 1.Corrosion Behavior of Carbon Steel and Growth of Sulfide Film on It in Acidic Solutions Containing H2S
Huiyu Yang;;
中科院金属所金属腐蚀与防护国家重点实验室
全文: PDF(244 KB)  
摘要: 利用交流阻抗(EIS)和极化曲线,结合扫描电镜(SEM)和能谱分析, 对常温下低碳钢在含H2S的模拟炼厂常减压塔顶冷凝水中的腐蚀电化学行为和不同浸泡时间下硫化物膜的生长过程进行了研究。结果表明,H2S对腐蚀反应的阴极过程有很大的促进作用,搅拌条件下尤甚;随介质pH值升高,其腐蚀性减弱。腐蚀浸泡初期(小于8h),电极表面硫化物膜的生长遵循抛物线机制,随浸泡时间的延长,硫化物膜变得疏松、易于破裂和脱落,并出现二次生长、修复过程,最终达到膜生长和溶解的平衡。实验条件下电极表面所生成的硫化物膜,不足以对碳钢起到保护作用。
关键词 交流阻抗极化曲线H2S腐蚀硫化物膜    
Abstract:The electrochemical behavior of low carbon steel corroding in acidic simulation solutions containing H2S was investigated by electrochemical impedance spectroscopy , potentiodynamic polarization curves and observations of SEM and ADEX. The results showed that the cathodic depolarization was enhanced greatly by H+ ionized from H2S under stirring or static condition. Corrosion rate decreased with increasing pH within the investigated pH range. The transfer resistance (Rt) initially increased with immersion time up to about 8h, but then decreased sharply. At the initial stage of corrosion, the growth of sulfide film on the electrode suface abided by parabolic law, but after longer immersion, the sulfide film became loose, easily cracked and sloughed off, furthermore, the second growth of film arose. Finally, the growth of film was balanced by its dissolution in solution. Sulfide film formed under test condition was not protective enough for carbon steel.
Key wordsEIS    potentiodynamic polarization    H2S corrosion    sulfide film
收稿日期: 1999-01-04     
ZTFLH:  TG172  
通讯作者: 杨怀玉   
Corresponding author: Huiyu Yang   

引用本文:

杨怀玉; 陈家坚; 曹楚南 . H2S水溶液中的腐蚀与缓蚀作用机理的研究1.酸性H2S溶液中碳钢的腐蚀行为及硫化物膜的生长[J]. 中国腐蚀与防护学报, 2000, 20(1): 1-7 .
Huiyu Yang. Study on Corrosion and Inhibition Mechanism in H2S Aqueous Solutions 1.Corrosion Behavior of Carbon Steel and Growth of Sulfide Film on It in Acidic Solutions Containing H2S. J Chin Soc Corr Pro, 2000, 20(1): 1-7 .

链接本文:

https://www.jcscp.org/CN/      或      https://www.jcscp.org/CN/Y2000/V20/I1/1

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