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中国腐蚀与防护学报  2001, Vol. 21 Issue (3): 177-181     
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铝表面高压阳极氧化膜层结构分析
侯朝辉;刘建平;许 岩
湖南大学化学化工学院
INVESTIGATION ON THE COMPONENTS,APPEARANCE ANDSTRUCTURE OF HIGH VOLTAGE ANODIZATION FILM ON ALUMINUM
Zhaohui Hou;Jianping Liu;Yan Xv
湖南大学化学化工学院
全文: PDF(185 KB)  
摘要: 采用X射线衍射(XRD)、扫描电镜(SEM)和X射线光电子能 谱(XPS)综合分析了铝在磷酸和钨酸钠体系中形成的高压阳极氧化膜的成分、形貌和结构 。XPS结果表明,氧化膜的主要组成元素为O和Al,同时夹杂有少量的P和W。SEM分析发现, 氧化膜呈网状结构,孔隙率约为10个/μm2,孔径大小为0.15~0.20μm。氧化膜大致可以 分为紧密层和疏松层两层。紧密层、疏松层、基体三者之间相互交错,紧密相连。SEM显示 ,紧密层和疏松层中均存在大量的龟裂纹。XRD分析表明,氧化膜呈现非晶态结构,以铝的 氧化物为主要组成成份,同时夹杂有少量的磷酸盐或钨酸盐。
关键词 高压阳极氧化膜层结构与组成    
Abstract:Components,appearance and structure of high voltag e anodization film,which anodized in mixed electrolyte of H3PO4 and Na2WO 4,were analyzed by XPS,SEM and XRD methods.XPS results showed that the main co mponents of the film were O,Al,P and W.SEM test indicated that the microstructur e of the film was like a web.The porosity was 10 per μm2,pore size was 015 ~0.20 μm.The film connected with the substrate in a jagged interlocking patter n and could be divided into two layers,the porous layer above and the compact la yer below.Many cracks were observed in both layers under higher magnification SE M study.XRD analysis found that it was a noncrystal structure.Aluminum oxides, mixed up with some phosphates and tungstates,were the main phases in the film.
Key wordsaluminum    high voltage anodization    film structure and c omposition
收稿日期: 2000-03-15     
ZTFLH:  TQ153.6  
通讯作者: 侯朝辉   
Corresponding author: Zhaohui Hou   

引用本文:

侯朝辉; 刘建平; 许岩 . 铝表面高压阳极氧化膜层结构分析[J]. 中国腐蚀与防护学报, 2001, 21(3): 177-181 .
Zhaohui Hou, Jianping Liu, Yan Xv. INVESTIGATION ON THE COMPONENTS,APPEARANCE ANDSTRUCTURE OF HIGH VOLTAGE ANODIZATION FILM ON ALUMINUM. J Chin Soc Corr Pro, 2001, 21(3): 177-181 .

链接本文:

https://www.jcscp.org/CN/      或      https://www.jcscp.org/CN/Y2001/V21/I3/177

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