研究了氢对钝镍阳极极化和钝化膜形成及耐蚀性能的影响.结果表明:预充氢会降低纯镍的自腐蚀电位,使其出现明显的活化区和临界钝化电流,缩短钝化区域;提高钝化电流密度和延长钝化膜的形成时间.固溶氢降低钝化膜的稳定性,增大膜的自活化能力;并导致钝化膜出现明显的孔蚀,膜的孔蚀电位随固溶氢含量的增加而降低.

采用电化学阻抗谱研究了FeAl 金属间化合物在650℃熔融(Li,K)2CO3中的腐蚀行为.结果表明,在腐蚀初期,合金腐蚀电化学阻抗谱表现为典型的扩散控制的特征;随着腐蚀的进行,其电化学阻抗谱则由两个容抗弧组成.提出了相应的等效电路,解析了电化学阻抗谱,并讨论了合金腐蚀机制.

用慢应变速率（SSRT）和恒载荷应力腐蚀试验方法研究了Ni-P化学镀层对304L钢焊接接头在42%MgCl2溶液和5%HCl溶液中的应力腐蚀（SCC）的影响，并对镀层的最佳磷含量进行了研究。在较低的应力下，特别是在镀层不开裂的情况下，镀层能起到抗SCC的作用；而当应力较高（σ＞σs）时或在SSRT下镀层破裂时，则裂纹首先在镀层破裂处产生，从而镀层失去保护作用。

测定了DZ40M钴基合金在900-1100℃空气中的氧化动力学曲线，观察分析了各温度下经不同时间氧化后合金的表面氧化物形貌和组成。该合金在900和1100℃的静态氧化较好地符合抛物线规律，而在1050和1100℃时由于氧化皮严重开裂和剥落而近乎呈直线发展。两者的氧化层形成机制有所不同，900和1000℃的后期氧化产物以Cr2O3为主，形成连续致密的保护层；1050的1100℃的后期氧化产物以CoCr2O4为主，不形成完整的Cr2O3保护层。

采用双层辉光离子渗金属技术在20钢上进行镍铬共渗处理，对合金元素的溅射和吸收这两个渗金属过程，从放电及溅射等理论角度并结合试验结果进行了分析讨论。结果表明，放电条件对渗层形成效率有很大影响，合金元素的利用率在不同的放电参数下会有悬殊的变化。溅射量决定于溅射电压与气压，利用率则受工件偏压、气压、极间距的共同控制。在一定的溅射量下，利用率的高低决定了渗层质量及形成效率。提高合金元素的利用率是工艺参数选择的最重要目标。

为检测添加钇对纯钴耐高硫-低氧混合气腐蚀的影响，研究了Co-15wt%Y 合金在600-700℃H2S-CO2 混合气中的腐蚀。合金腐蚀后形成多层结构的腐蚀产物膜，最外层是单一的硫化钴，中间层为由两金属化合物组成的混合物层。最内层是由氧和硫引起的钇的内腐蚀区。在钇含量达到15wt%的条件下未发生钇的选择外硫化/氧化，这与钇在基体金属中的限的固溶度和合金中出富钇金属间化合物有关。

从热力学角度探讨了环烷酸-铁-硫化氢腐蚀体系的热力学性质，结果表明：在该体系中，腐蚀产物受硫化氢和环烷酸分压影响；钝化区为硫化氢腐蚀，硫化物在膜中的扩散为速率控制步骤；在腐蚀区这环烷酸腐蚀，环烷酸与金属表面的反应为速率控制步骤。根据相图，分析了两次出现腐蚀高峰的原因。

用电化学方法考察研究了2-巯基苯并恶唑（MBO）在3%NaCl溶液中对铜的缓蚀性能。MBO同时抑制阴极和阳极过程。缓蚀效率与MBO浓度、铜样品在含MBO的溶液中预浸泡时间以及该溶液的腐蚀性有关。当铜样品在MBO饱和（1mmol/L)的3%NaCl中处理20h以上，缓蚀率达到约99%，而处理介质不含NaCl时则缓蚀率低得多。因此，MBO缓蚀膜的生成与铜本身的腐蚀过程有关。

用AES、XPS、FTIR和原位（in situ)扫描隧道显微镜（STM）等方法表征研究了在含氯化钠的2-巯基苯并恶唑（MBO）溶液中铜样品表面所形成的缓蚀膜。研究结果表明，MBO是成膜型缓蚀剂，它在铜发生腐蚀的条件下，通过化学反应在铜表面形成不溶且致密的膜，从而起到缓蚀作用。其中的S和N原子在缓蚀膜构成中起重要作用。

采用AMI计算方法优化计算了呋喃及其衍生物的几何构型，并将其轨道能级、呋喃环上氧原子净电荷与缓蚀性能相拟合，发现有好的相关性。建立了Al族界面模型，优化计算了这类缓蚀剂在Al簇界面上的吸咐方式，稳定化能等，对缓蚀机理进行了探讨。文中还预测了呋喃甲醇的缓蚀性能，经实验验证了所得规律的正确性。