空心阴极辉光放电膏剂离子渗铝

中国腐蚀与防护学报

1997, Vol. 17

Issue (4): 286-290

研究报告

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空心阴极辉光放电膏剂离子渗铝

高原;贺志勇;徐重

太原工业大学表面工程研究所;太原030024;太原工业大学表面工程研究所;太原030024;太原工业大学表面工程研究所;太原030024

PASTE PLASMA ALUMINIZING BY HOLLOW CATHODE DISCHARGE

GAO Yuan HE Zhiyong XU Chong (Taiyuan University of Technology; Taiyuan 030024)

全文: PDF(809 KB)

摘要: 文中提出了一种新的渗铝方法-辉光加热膏剂渗入法,将涂有渗铝膏剂的试样置于阴极空腔中,在辉光放电作用下实现离子渗铝。渗铝膏剂经优选,选出最佳配方:(wt％)Al 40％,Na_3AlF_6 5％,KBF_4 5％,SiC 50％,用此配方在低碳钢表面1050℃×2h渗铝,其渗铝层厚度可达230μm。渗铝后,试样的抗氧化性可提高2～3倍。此方法具有渗入速度快,表面质量好,可方便地实现局部渗铝等优点。文中还讨论了渗铝机理。

关键词 ：离子渗铝, 辉光放电, 膏剂

Abstract：A new aluminizing method, the paste plasma aluminizing by hollow cathode, was developed. The optimum paste composition was obtained by orthogonal test method to be 40wt% Al, 5wt% NasAlFe, 5wt% KBF4, 50wt% SiC. The aluminizing was carried out at 1050℃ for 2h. The aluminized layer was 230 μm thick. The treatment increased oxidation resistance of low carbon steel by 2-3 times. The diffusion mechanism of this aluminizing process was discussed. Its advantages included quick diffusion speed, good surface quality and the possibility of localized aluminizing.

Key words： Plasma aluminizing Glow discharge Paste

收稿日期: 1997-08-25

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高原;贺志勇;徐重. 空心阴极辉光放电膏剂离子渗铝[J]. 中国腐蚀与防护学报, 1997, 17(4): 286-290.
. PASTE PLASMA ALUMINIZING BY HOLLOW CATHODE DISCHARGE. J Chin Soc Corr Pro, 1997, 17(4): 286-290.

链接本文:

https://www.jcscp.org/CN/ 或 https://www.jcscp.org/CN/Y1997/V17/I4/286

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