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中国腐蚀与防护学报  2006, Vol. 26 Issue (3): 188-192     
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金属的光电化学方法防腐蚀原理及研究进展
张鉴清;冷文华;程小芳;刘东坡
浙江大学玉泉校区化学系
PRINCIPLES OF PHOTOELECTROCHEMICAL APPROACH FOR METAL ANTICORROSION AND CURRENT STATUS
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浙江大学玉泉校区化学系
全文: PDF(943 KB)  
摘要: 自上世纪70年代以来,半导体特别是TiO2光电催化反应在诸多领域应用引起了广泛研究.近年来研究表明它可用于金属的阴极保护.文中对金属的光电化学方法防腐蚀的化学原理及研究现状进行了简要介绍.
关键词 光电化学半导体阴极保护腐蚀    
Abstract:There have been widely investigated on the application of semiconductor photoelectrochemical reaction since 1972,particularly TiO2 photocatalysis.In recent years it has been demonstrated that it can apply to the cathodic protection for metal.In this paper the principles of photoelectrochemical approach for metal anticorrosion are briefly presented and it current status are reviewed.
Key wordsPhotoelectrochemistry    semiconductor    cathodic protection    corrosion.
收稿日期: 2005-12-13     
ZTFLH:  X78  
通讯作者: 冷文华     E-mail: lengwh@css.zju.edu.cn

引用本文:

张鉴清; 冷文华; 程小芳; 刘东坡 . 金属的光电化学方法防腐蚀原理及研究进展[J]. 中国腐蚀与防护学报, 2006, 26(3): 188-192 .
. PRINCIPLES OF PHOTOELECTROCHEMICAL APPROACH FOR METAL ANTICORROSION AND CURRENT STATUS. J Chin Soc Corr Pro, 2006, 26(3): 188-192 .

链接本文:

https://www.jcscp.org/CN/      或      https://www.jcscp.org/CN/Y2006/V26/I3/188

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