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中国腐蚀与防护学报  1996, Vol. 16 Issue (2): 145-148    
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电沉积Cr-P合金及其耐蚀性的研究
高学锋;朱日彰
北京科技大学
ELECTRODEPOSITION OF Cr-P ALLOYS AND THEIR CORROSION ASSISTANCE
Gao Xuefeng;Zhu Rizhang(Beijing University of Science and Tchnolony)Masamichi Kowaka(C. Uyemuru Industry Co.; Ltd. OSAKA; JAPAN )
全文: PDF(328 KB)  
摘要: 在三价镀铬溶液中添加次磷酸钠,制得了Cr-P合金镀层。研究了电沉积条件对镀层成份的影响和镀层在1mol/L盐酸和0.5mol/L硫酸中的电化学行为。磷含量大于5wt%时,合金镀层具有极好的耐蚀性。
关键词 电沉积铬合金耐蚀性    
Abstract:Cr-P alloys were deposited from the bath for chormium (Ⅲ) electrodeposition containing NaH2PO2.The effects of some electroplating parameters on P content in the obtained deposits were evaluated. The P content increased with decreasing cathodic current density and with increasing H2PO concentration in the bath. Tile anodic polarization behavior of the deposits in 0.5 mol/L H2SO4 and 1 mol/L HCl was examined. When tile P content exceeded 5 wt%, the deposited alloy exhibited excellent corrosion resistance and the passive current density was only 10-50μA/cm2.
Key words Electrodeposition    Chromium alloy    Corrosion resistance
收稿日期: 1996-04-25     

引用本文:

高学锋;朱日彰. 电沉积Cr-P合金及其耐蚀性的研究[J]. 中国腐蚀与防护学报, 1996, 16(2): 145-148.
. ELECTRODEPOSITION OF Cr-P ALLOYS AND THEIR CORROSION ASSISTANCE. J Chin Soc Corr Pro, 1996, 16(2): 145-148.

链接本文:

https://www.jcscp.org/CN/      或      https://www.jcscp.org/CN/Y1996/V16/I2/145

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